MOSFET密勒效應(yīng)的計(jì)算與分析 |
先上個(gè)University of Cambridge課程中的MOS圖: 本文主要介紹下利用MOS管的密勒效應(yīng)來設(shè)計(jì)沖擊電流控制電路,通過定量分析較為精確的控制上電電流。 所謂沖擊電流,電源電路上電時(shí)會(huì)對負(fù)載電容進(jìn)行充電,相當(dāng)于一個(gè)RC充電電路的電阻為零,理論上充電電流為無窮大。即使考慮導(dǎo)線的電阻和電容的ESR,這也是一個(gè)很大的沖擊電流。網(wǎng)上有不少資料介紹密勒平臺控制沖擊電流的電路,但大多不滿足硬件工程師的應(yīng)用要求,即沒有給出如何根據(jù)電流限制值,確定電路中器件參數(shù)。 一、什么是密勒效應(yīng) 以增強(qiáng)型N溝道MOSFET為例介紹。 注:下文圖中MOSFET符號是耗盡型,圖暫時(shí)不做修改了。 情形一 假設(shè)N溝道MOSFET的漏源之間存在電容Cds,Cds充滿電。 此時(shí)在柵極加電壓,則Ugs瞬間變?yōu)閂g并保持不變;MOS管打開,Cds開始放電,放電電流恒定不變,Uds線性降低,直到為0。 情形二 在情形一的基礎(chǔ)上,再假設(shè)MOS管的柵源間存在電容Cgs。 此時(shí)在柵極加電壓,Cgs開始充電,Ugs上升,由于Rg的作用,充電電流越來越小,Ugs上升的速度越來越慢,即dUgs/dt越來越小。 Ids越來越大,到最大后保持不變;Uds下降,下降速度越來越快,最后一最大速度線性下降直到為0; 情形三 在情形二的基礎(chǔ)上,再假設(shè)MOS管的柵漏之間存在電容Cdg。 這就相當(dāng)于引入了一個(gè)電壓負(fù)反饋,由于Uds下降,帶動(dòng)Ugs下降,Uds下降越來越快,引起Ugs下降速度越來越快。 此時(shí)有兩個(gè)因素會(huì)引起Ugs電壓的變化: Vg的充電作用,引起Ugs上升,但上升的速度越來越慢; Cdg的電壓負(fù)反饋,引起Ugs下降,且下降速度越來越快; 最終上升的速度與下降的速度相等,導(dǎo)致Ugs保持不變,即dUgs/dt=0,這就是密勒效應(yīng)。 電流分析 下文從電流的角度,分析整個(gè)密勒效應(yīng)的過程,電流方向如下圖所示: 首先,需要判斷Idg的方向。Ugs上升,上升速度下降;Uds下降,下降速度上升;則,Cdg兩端電壓Udg是下降的,且下降的速度上升;因此,電容Cdg是向MOS管的漏極放電,Idg的方向,是通過Cdg從柵極流向漏極,且Idg越來越大,即:Ig=Idg+Igs。 Ig越來越小,Idg越來越大,最終Ig=Idg,此時(shí)Igs=0;即dUgs/dt=0。 再從MOS管的轉(zhuǎn)移特性曲線上,分析情形三時(shí),MOS管開啟的整個(gè)過程。 MOS管開啟后,Uds慢慢下降,最終由于密勒效應(yīng),進(jìn)入恒流區(qū),Ids保持不變,Uds繼續(xù)下降,當(dāng)Uds下降到一定值后,進(jìn)入可變電阻區(qū),Ugs開始上升。 可以看出,Ugs存在一個(gè)平臺,所以密勒效應(yīng)也叫密勒平臺。 這是一個(gè)動(dòng)態(tài)平衡的過程,當(dāng)Ugs上升,Id變大,Uds下降,由于Cgd引入了電壓負(fù)反饋,Ugs下降;從而Ig變大,Cgs充電,Ugs又上升。 基爾霍夫電壓定律:Uds=Udg+Ugs 取導(dǎo)數(shù):dUds/dt=dUdg/dt+dUgs/dt=dUdg/dt 又根據(jù)電容公式:Q=UC 即:dQds/Cdsdt=dQdg/Cdgdt 電荷對時(shí)間的變化率為電流 即:Ids/Cds=Idg/Cdg 文章轉(zhuǎn)載自網(wǎng)絡(luò),如有侵權(quán),請聯(lián)系刪除。 |
| 發(fā)布時(shí)間:2018.06.21 來源:電源適配器廠家 |
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